目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，其致密层能阻止单晶硅高温拉制过程中硅与石英坩埚反应提高成晶率。

　　用途：

　　1．石英坩埚可在1450度以下使用,分透明和不透明两种.用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅,发展大规模集成电路必不可少的基础材料.当今,世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚.他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点.

　　2、不能和HF接触,高温时,极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用.

　　3．石英坩埚适于用K2S2O7,KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品.

　　4．石英质脆,易破,使用时要注意.

　　5．除HF外,石英玻璃坩埚普通稀无机酸可用作清洗液.国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚.

　　目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟.其生产使用原料石英砂主要由美国进口.国内产的石英砂纯度都达不到其要求.其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响.目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层高纯度石英砂使其形成致密层,其致密层能阻止单晶硅高温拉制过程中硅与石英坩埚反应提高成晶率.

　　普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸22英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产大厂家生产的坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂由美国进口和挪威高纯石英砂两种。也有小厂使用国产料其原料生产的石英坩埚对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。

石英坩埚特性介绍：

　　1．石英坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。

　　2、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。

　　3．石英坩埚适于用K2S2O7，KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。

　　4．石英质脆，易破，使用时要注意。

　　5．除HF外，